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光学镀膜的过程详细介绍

2021-07-08 03:51:25

光学镀膜是在一个高真空镀膜室中实现的。传统的光学镀膜工艺需要升高基材温度(通常在300℃左右);更先进的技术,如离子辅助沉积(IAD),可以在室温下进行。 IAD工艺不仅可以生产出比传统镀膜工艺具有更好物理性能的薄膜,而且还可以应用于塑料制成的基材。


用于电子束蒸发、IAD沉积、光控制、加热器控制、真空控制和自动工艺控制的控制模块位于镀膜机的前面板上。用于光学镀膜的两个电子枪源位于基片的两侧,周围有环形盖板,并由挡板覆盖。离子源在中间,而光学控制窗口在离子源的前面。

光学镀膜

使用行星系统的光学镀膜是一种确保蒸发的材料均匀分布在夹具区域的方法。夹具围绕一个共同的轴线旋转,同时也围绕自己的轴线旋转。光学涂层光控和晶体控制位于行星驱动机构的中间,而驱动轴则屏蔽了晶体控制。背面的大开口通向一个额外的高真空泵。基片加热系统由四个石英灯组成,在真空室的两侧各有两个。


光学涂层沉积的传统方法是热蒸发或使用电阻式加热蒸发源或电子束蒸发源。光学涂层的特性主要取决于沉积原子的能量。离子源将离子枪的离子束引导到基材表面,并使光学涂层生长,以改善传统电子束蒸发的光学涂层特性。


光学涂层的特性,如折射率、吸收和激光损伤阈值,主要取决于薄膜的微观结构。光学涂层材料、残余气压和基片温度都可能影响薄膜的微观结构。如果沉积在基片表面的原子蒸气的流动性低,光学涂层将包含微孔。当薄膜暴露在潮湿的空气中时,这些孔会逐渐被水蒸气填满。


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